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九库书吧 >> 言情总裁 >> 我有科研辅助系统 >> 第二十一章 真空镀膜(下)

空气泵发出一声巨响,随后传来“咣咣咣”的声响。

许秋吓的一激灵,朝后缩了一下身子。

等了一会儿,他感觉没什么危险,便上前检查空气泵。

“看着没有问题啊。”他向学姐道。

“确实没问题,这是正常情况。现在是发动机在通过曲轴,驱动活塞向储气筒内打气,等到储满气后,就会自动停下。”

陈婉清试图绷住脸上的笑容,但是没有成功,还是笑了出来。

“学姐你是故意的吧。”许秋做出一副愤慨的样子。

“怎么会呢,我是那样的人嘛。”陈婉清笑道。

许秋摇了摇头,回到总控台,继续实验。

他打开总控开关,膜厚仪的数显屏幕亮起。

许秋先检查膜厚仪的参数是否设置正确,包括靶材名称、密度和z因数等。

膜厚仪的原理并不是直接测量膜厚,而是通过间接法计算得到。

在蒸镀过程中,靶材分子到达晶振片处,会产生电信号,经过拟合计算可将电信号转化为蒸镀速率,最后将速率与时间相乘得到膜厚。

调好膜厚仪后,数显屏幕上显示:

蒸镀材料为钙,速率为0.00埃每秒,膜厚为0.00埃。

同时,许秋观察到总控台上面有两个气压计,可以实时监测蒸镀舱内的压强。

其中一个示数为一个大气压,即1.0e5帕,另外一个则处于未工作状态。

“为什么要安装两个气压计呢?”许秋疑惑道。

“两者的压强测定范围不同,前者约为0.1到10000帕,后者约为十的负六次方到1帕。”陈婉清道,随后又补了一句:

“准备工作都好了,开始抽真空吧。”

许秋点点头,按下机械泵的启动键,同时打开超真空挡板阀,又是一阵轰鸣声传来。

“蒸镀操作的噪音有点大啊。”习惯了之前安静实验环境的许秋,忍不住吐槽道。

“是啊,不过慢慢你就会适应的。”陈婉清道。

机械泵启动后,气压计的示数快速减小。

从1.0e5,迅速变为3.2e4,然后是8.9e3,直至1e3帕左右,下降速度才开始变慢。

过了两分钟左右,压强终于降至20帕以下,许秋关闭超真空挡板阀,打开分子泵。

分子泵的转速要从0逐渐加速至27000r..后,它才可以正常工作,约需要耗时10分钟。

待分子泵运转平稳后,许秋打开束源炉挡板,然后启动束源炉的升温控制装置。

装置的屏幕上显示有束源炉当前温度和设定温度,分别为27和30摄氏度。

他打开设定界面。

这块屏幕采用的是计算器上那种“日”字型的显示方法,主要用于数字显示,所以显示出来的字母都很抽象。

还好都是常用的单词,许秋花了点时间弄明白每个参数的意义后,手动设定升温程序:

sp1 30

rate 30

time 60

sp2 400

rate 30

time 3

sp3 520

rate 20

time 100

第一阶段,以30摄氏度每分钟的速率升至30摄氏度,等待60分钟;

第二阶段,以30摄氏度每分钟的速率升至400摄氏度,等待3分钟;

第三阶段,以20摄氏度每分钟的速率升至520摄氏度,等待100分钟。

确认无误后,他长按启动键,启动程序。

升温程序需要跑一个多小时。

在此期间,许秋向学姐请教了真空系统的工作原理。

陈婉清讲解道:“机械泵,最多只能将舱内压强降至零点几帕,必须使用分子泵才能将压强降低至十的负五次方帕这个数量级,从而达到蒸镀实验所需的最低真空度要求。

分子泵只能在低压强下使用。所以在压强大于20帕时,采用超真空挡板阀,阻隔分子泵和蒸镀舱连接;当压力低于20帕时将其关闭,再使分子泵和蒸镀舱连通。

分子泵启动后,还需要较长的时间,才能使蒸镀舱内压强达到1e-5级别。

这个时间在半小时至一个半小时之间。

如果一个半小时过后仍无法达到这个真空度,通常有两种情况。

一种是体系气密性不好,比如在关舱门时,门缝处夹了一个塑料袋;

另一种情况是舱体内蒸镀残留物过多,需要清理。”

虽然系统里也有影像资料供许秋学习,但他觉得还是听学姐讲解一起,一直不互动也蛮尴尬的。

……

一小时后。

真空计示数达到5.2e-5帕,升温程序也进入第二阶段,一切正常。

十二分钟后。

温度示数达到400摄氏度,膜厚仪显示的实时蒸镀速率,在-0.01至0.01埃每秒之间波动,膜厚显示仍为0.00埃。

三分钟后。

温度示数继续增加,直至480摄氏度左右,蒸镀速率开始在0.00至0.03埃每秒之间波动。

当温度达到520摄氏度后,蒸镀速率维持在0.20至0.30埃每秒。

许秋先开启样品台旋转,在等待了约十秒钟后,同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。

钙要蒸镀10纳米的厚度,也就是100埃。

……

待膜厚仪示数达到100埃时,许秋迅速关闭样品挡板。

随后,他将束源炉升温数控装置关闭,让束源炉自然降温。

最后,将膜厚仪的参数改为铝的参数。

……

半小时后。

束源炉的温度降低至77摄氏度。

许秋关闭钙的束源炉


状态提示:第二十一章 真空镀膜(下)
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